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3-31
紫外光刻機(jī)是微納制造領(lǐng)域的核心裝備,被譽(yù)為“現(xiàn)代光學(xué)工業(yè)的照相機(jī)”。根據(jù)光源波長(zhǎng)、曝光方式、掩模對(duì)準(zhǔn)機(jī)制及基板尺寸等不同標(biāo)準(zhǔn),紫外光刻機(jī)可劃分為多種類型。本文將從六個(gè)維度系統(tǒng)介紹紫外光刻機(jī)的主要分類,解析各類光刻機(jī)的技術(shù)特點(diǎn)、適用場(chǎng)景及優(yōu)缺點(diǎn),幫助讀者在實(shí)際應(yīng)用中做出合理選型。一、按光源波長(zhǎng)分類紫外光刻機(jī)最核心的區(qū)分指標(biāo)是光源波長(zhǎng),波長(zhǎng)直接決定了可達(dá)到的分辨率極限。類型波長(zhǎng)分辨率極限典型應(yīng)用汞燈光刻機(jī)436nm(g線)、365nm(i線)0.35-0.5μm功率器件、MEMS...
3-25
電解雙噴儀是一款簡(jiǎn)單實(shí)用的基本型電解雙噴減薄設(shè)備。采購(gòu)磁子驅(qū)動(dòng)電解液涌流進(jìn)行噴射拋光,拋光電壓、破孔感光值、泵流速度旋扭可調(diào),具有穿孔自動(dòng)報(bào)警功能。能夠使用少量電解液,液氮冷卻方式,簡(jiǎn)單快速方便地進(jìn)行金屬的電鏡樣品制備。電解雙噴儀的性能特點(diǎn):加液氮制冷方式,控制盒與電解槽分開控制,拋光破孔自動(dòng)報(bào)警拋光電壓、電流值液晶數(shù)字顯示拋光電壓、破孔感光值及泵流速度旋鈕可調(diào)磁力涌流式噴射拋光,進(jìn)口PVC材料整體成型加工,無(wú)泄漏風(fēng)險(xiǎn)直流無(wú)刷驅(qū)動(dòng)電機(jī)封閉隔離式設(shè)計(jì),電機(jī)使用壽命長(zhǎng),穩(wěn)定性好電...
3-14
烤膠機(jī)整個(gè)面板溫度均勻,對(duì)基片膜層固化效果非常好。由于固化是從下往上,所以不會(huì)產(chǎn)生皮膚效應(yīng)。這種“由里而外”的固化方式尤其適合較厚的膜層,因?yàn)檩^靠近基片的膜層會(huì)固化好,然后是膜層靠外的部分。該機(jī)由于升溫,所以產(chǎn)量較高。烘烤時(shí)間用秒計(jì)算,而不是像傳統(tǒng)烘箱用分鐘或者小時(shí)計(jì)算。該機(jī)主要有機(jī)箱、加熱部件和電控系統(tǒng)組成。機(jī)箱由箱體、罩殼和箱蓋組成。加熱的部件由加熱板、加熱元件及保溫層、隔熱層組成。電控系統(tǒng)由控溫儀、繼電器、熱電偶、開關(guān)、指示燈、風(fēng)扇、插座等組成。控溫儀、電源開關(guān)、指示燈...
3-3
旋轉(zhuǎn)涂覆技術(shù)一般采用設(shè)備是自動(dòng)勻膠顯影機(jī)。勻膠機(jī)有很多種稱謂,又稱甩膠機(jī)、勻膠臺(tái)、旋轉(zhuǎn)涂膠機(jī)、旋轉(zhuǎn)涂膜機(jī)、旋轉(zhuǎn)涂層機(jī)、旋轉(zhuǎn)涂布機(jī)、旋轉(zhuǎn)薄膜機(jī)、旋轉(zhuǎn)涂覆儀、旋轉(zhuǎn)涂膜儀、勻膜機(jī),總的來(lái)說(shuō),他們?cè)矶际且粯拥模丛诟咚傩D(zhuǎn)的基片上,滴注各類膠液,利用離心力使滴在基片上的膠液均勻地涂覆在基片上,厚度視不同膠液和基片間的粘滯系數(shù)而不同,也和旋轉(zhuǎn)速勻膠顯影機(jī)度及時(shí)間有關(guān)。自動(dòng)勻膠顯影機(jī)清洗保養(yǎng)內(nèi)容:1.裝置殼體及蓋板:用純水浸濕的無(wú)塵布擦拭設(shè)備外殼,及顯影室、水洗室蓋。污物不能擦去純水可...
2-24
勻膠機(jī)轉(zhuǎn)速穩(wěn)定、啟動(dòng)迅速,旋涂均勻,操作簡(jiǎn)單,結(jié)構(gòu)緊湊實(shí)用,為實(shí)驗(yàn)室提供了理想的解決方案。廣泛應(yīng)用于微電子、半導(dǎo)體、新能源、化工材料、生物材料、光學(xué),硅片、載玻片,晶片,基片,ITO導(dǎo)電玻璃等工藝制版表面涂覆等。勻膠機(jī)的工作原理是高速旋轉(zhuǎn)基片,利用離心力使滴在基片上的膠液均勻的涂在基片上,甩膠機(jī)常用于各種溶膠凝膠實(shí)驗(yàn)中的薄膜制作,厚度視不同膠液和基片間的粘滯系數(shù)而不同,也和旋轉(zhuǎn)速度及時(shí)間有關(guān)。勻膠機(jī)的操作說(shuō)明:(1)選擇合適的專用吸附盤(略小于樣本尺寸),將缺口對(duì)準(zhǔn)螺釘安裝,...
2-17
伺服勻膠機(jī)一個(gè)典型的勻膠過(guò)程包括滴膠,高速旋轉(zhuǎn)以及干燥(溶劑揮發(fā))幾個(gè)步驟。滴膠這一步把光刻膠滴注到基片表面上,高速旋轉(zhuǎn)把光刻膠鋪展到基片上形成薄層,干燥這一步除去膠層中多余的溶劑。兩種常用的滴膠方式是靜態(tài)滴膠和動(dòng)態(tài)滴膠。靜態(tài)滴膠就是簡(jiǎn)單地把光刻膠滴注到靜止的基片表面的中心。滴膠的多少應(yīng)根據(jù)光刻膠的粘度和基片的大小來(lái)確定。粘度比較高或基片比較大,往往需要滴較多的膠,以保證在高速旋轉(zhuǎn)階段整個(gè)基片上都涂到膠。伺服勻膠機(jī)動(dòng)態(tài)滴膠方式是在基片低速旋轉(zhuǎn)的同時(shí)進(jìn)行滴膠,“動(dòng)態(tài)”的作用是讓...
2-8
臺(tái)式勻膠機(jī)主要由樣品臺(tái)、滴膠裝置和空心電動(dòng)機(jī)組成,其工作原理是,通過(guò)在樣品臺(tái)上產(chǎn)生負(fù)壓將需要旋涂的基底材料吸附在樣品臺(tái)上,光刻膠液滴注在基底材料的表面,通過(guò)準(zhǔn)確控制電動(dòng)機(jī)的旋轉(zhuǎn)速度,以此來(lái)改變離心力的大小,同時(shí)通過(guò)控制膠液的流量來(lái)達(dá)到制備薄膜所需的厚度。臺(tái)式勻膠機(jī)常用的滴膠方式分為兩種,即靜態(tài)滴膠和動(dòng)態(tài)滴膠。靜態(tài)滴膠是在基片靜止時(shí)將光刻膠滴注到基片的中心位置,滴膠量還應(yīng)根據(jù)光刻膠的黏度和基片的大小來(lái)確定。當(dāng)光刻膠黏度較高或基片尺寸較大時(shí),需要更多的光刻膠才能保證在高速旋轉(zhuǎn)過(guò)程...
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